溅射工艺有哪几种

　　溅射镀膜就是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理机械和化学性能得到提高，而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点。

　　靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工，并可以为客户提供部分靶材的绑定服务。

　　参考尺寸：直径≤3556mm(14英寸)，长度≤1000mm，宽度≤200mm，厚度≤20mm

　　溅射工艺有哪几种?

　　溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。

　　淀积薄膜时，溅射源置于靶极，受氩离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜，若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜，通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。

　　溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受氬离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时，应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。

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