靶材溅射时,靶材中的原子最容易沿着密排面方向择优溅射出来,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此,获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材组织获得一定取向的结晶结构,存在较大难度,只有根据靶材的组织结构特点,采用不同的成型方法,热处理工艺进行控制。
随着国内半导体集成电路、记录介质、平面显示及工作表面涂层等高技术产业的发展,为中国靶材制造业的发展提供了机遇和挑战。怎样解决靶材制备过程中目前存在的靶材利用率低、溅射过程中微粒飞溅、靶材的结晶取向等问题,为国内外用户提供高质量的溅射靶材,是摆在国内材料工作者面前的现实问题。
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