溅射靶材蒸镀材料,性能优良、性价比高已成功批量于数码相机、投影电视、数码显示的各种光学系统中做蒸镀材料使用,并以每年50%的增量发展,年产量40吨以上,且80%以上的数量产品输往日本、台湾、欧洲和美国,销量并在逐年递增。
靶材的要求较传统材料行业高，靶材一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。
溅射靶材是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。靶材作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。
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