与其它形式的磁控溅射靶材相比，圆柱形、平面式磁控溅射靶在保留了矩形平面靶镀膜均匀性好的优点的同时，可通过以下两条途径最大限度地提高靶材的利用率：
(1)当靶材表面的2组(四条)环状凹坑达到一定深度时，可将靶芯(磁体部分)相对靶管旋转45°，这样就可以对靶管上另外没有腐蚀过的区域进行利用；
(2)当圆柱形、平面式磁控溅射靶的靶芯设计成转靶芯时，(溅射时靶芯在旋转)，可将靶材表面一层一层均匀地溅射掉，而不会产生凹坑，此时，靶材将得到最有效的利用，靶材的利用率可达50%～60%，当靶材为贵重金属材料时，这无疑是具有重大意义的。
通过采用同轴圆柱形磁控溅射靶中磁铁与靴的原理来解决端部磁场问题，可以将矩形平面靶演变成圆柱形、平面式磁控溅射靶，该靶在保留矩形平面靶镀膜均匀性好的情况下，可最大限度地提高靶材的利用率，从而提高经济效益。
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