什么是钨靶材

钨靶材即纯钨靶材，是由纯度99.95%以上的钨材制作而成，具有银白色金属光泽，是以纯钨粉为原材料制成的，也被称之为钨溅射靶材，具有高熔点、较好的弹性、较低的膨胀系数、良好的热稳定性等优点，已被广泛应用于薄膜材料、半导体集成电路、X-射线管、医疗和熔炼设备、稀土冶炼、航空等领域。

为什么选择纯钨作为靶材原材料？因为钨靶材具有以下优点：

1.高纯度，烧结锻打后的钨靶可以99.95%的密度甚至更高；

2.成型快，采用粉末冶金，直接压制成型；

3.高致密度，锻打后的钨靶材密度可达到19.1g/cm3以上；

4.粉末冶金法的广泛应用，使钨靶成本比钛等其他靶材低；

5.成分均匀、组织结构都是均匀的，提高了钨靶的偏转力度；

6.较细小的晶粒尺寸，晶粒均匀且等轴，一致性较高，镀膜成品质量也相对较高。

随着新技术和新材料，特别是微电子行业的新器件和新材料的飞速发展，溅射靶材的市场规模日益扩大。靶材已逐渐发展成为一个专业化产业，世界的靶材市场还将进一步扩大。

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