氧化锌铝靶材的制备方法

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。

AZO是铝掺杂的氧化锌(ZnO)透明导电玻璃的简称，ZnO薄膜是一种重要的光电子信息材料，不仅具有与传统的ITO薄膜相比拟的光电性质，而且原料丰富，价格低，无毒性，热稳定性高，在太阳能电池、液晶显示器及光电探测器等领域有着广泛的应用前景。

氧化锌铝靶材的制备方法包括以下步骤：

1、以锌盐和铝盐为原料，加纯水溶解，调pH至7.0～10.5，然后在水热条件下，控温90～140℃反应1.0～2.0小时；

2、过滤使产物和母液分离，用纯水洗涤、烘干，得到氧化锌铝粉体；

3、所得粉体在400～550℃煅烧2小时；

4、将所得粉体装入真空热压炉，抽真空1～100Pa，加压50～100MPa，然后慢慢升温，在1200～1400℃内保温烧结2～5小时，再缓慢降温，制得相对密度不低于95%的氧化锌铝(ZAO)陶瓷靶材。

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