真空溅射镀膜靶材_Ta1高纯钛靶材

靶材名称：真空溅射镀膜靶材 Ta1高纯钛靶材

材 质：钛

纯 度：99.95%—99.999%

晶 粒 度：＜100um

应用领域：半导体、LCD、太阳能行业等

靶材优点：质量可靠，价格优惠，真空熔炼，设备提纯，纯度高，杂质少，轧制致密，氧化少，成型可塑，相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高

靶材用途：钛能与铁、铝、钒或钼等其他元素熔成合金，造出高强度的轻合金，在各方面有着广泛的应用，包括航天(喷气发动机、导弹及航天器)、军事、工业程序(化工与石油制品、海水淡化及造纸)、汽车、农产食品、医学(义肢、骨科移植及牙科器械与填充物)、运动用品、珠宝及手机等等。是良好的耐火金属材料。钛粉在烟火制造上用于提供明亮的燃烧颗粒。

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