真空溅射靶材的信息介绍

真空溅射靶材的信息介绍，帮助大家更好的了解靶材行业的知识。

靶材技术指标：纯度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根据用户要求调整Al2O3掺杂比(0-4)wt%]相对密度：d≥98%理论密度：ρ=5.6g•cm-3实际密度：ρ≥5.5g•cm-3致密性均一：从横断面看无白点或大颗粒2.镀膜性能：方块电阻：膜厚900nm左右时，方阻≤10Ω/□电阻率：ρ≤9×10-4Ω•cm可见光透过率：T≥80%3.溅射功率密度：目前国内镀膜设备适用功率3-4w•cm-2，在设备冷却系统好的情况下，最高功率可达10w•cm-24.可生产最大尺寸(mm)：最大模具规格：L×W=334×272，现有L×W×H=330×135×12，160×135×12,160×135×9三种规格，厚度可根据客户要求生产。

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