磁控溅射硅靶材_高纯硅靶材

靶材名称：磁控溅射硅靶材 高纯硅靶材

纯度：99.99%

密度：2.4g/cm³

熔点：1410℃

晶粒度：均匀

形 状：环状、片状、圆片

靶材优势：纯度高，杂质少，相对致密度高，晶粒均匀，一致性高

应用领域：

1.硅主要用来制作高纯半导体、耐高温材料、光导纤维通信材料、有机硅化合物、合金等，被广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、能源、化工、纺织、食品、轻工、医疗、农业等行业。

2.硅可用来制作金属陶瓷复合材料，这种材料继承了金属和陶瓷的各自优点，同时还弥补了两者不足，具有耐高温、富韧性、可切割等优点。

3.高纯的单晶硅是重要的半导体材料，可制成二极管、三极管、晶闸管和各种集成电路(包括人们计算机内的芯片和CPU)，还可以做成太阳能光伏电池。

4.硅与其他金属可以制成合金，以此来提升其金属性能。硅制成的合金主要包括：硅铝合金、硅铜合金、硅铁合金、硅锰合金等。

5.纯二氧化硅可拉制出高透明度的玻璃纤维，该纤维是光导纤维通信的重要材料，这种通信方式代替了笨重的电缆，通信容量高，不受电、磁干扰，不怕窃听，具有高保密性。

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