靶材名称：真空镀膜用铌旋转靶材 铌溅射靶材 出厂价
材质：铌
纯度：99.95%
晶粒度：＜100μm
生产工艺：热轧，冷轧，碱洗，剪切而成
靶材应用：微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。
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