研磨材料陶瓷靶材

溅射靶材 2020-07-13 11:32

通常靶材为多晶结构，陶瓷靶材晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，研磨材料晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

陶瓷靶材：

ITO靶、AZO靶，氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，研磨材料五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶，硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、钛酸锶钡靶、氧化镍靶、镧锶锰氧靶、铁酸铋靶等陶瓷溅射靶材。

溅射靶材是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，陶瓷靶材其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。