真空离子镀材料铬靶材_高纯精加工平面铬靶材

靶材名称：真空离子镀材料铬靶材 高纯精加工平面铬靶材

产 地：上海

材 质：Cr

纯 度：99.95%

晶粒度：<100um

工艺：热轧，冷轧，酸洗，剪切而成。

应用领域：

主要用于STN、tft、Ai、TP等磁控溅射镀膜;也用于制不锈钢，汽车零件，工具，磁带和录象带。铬靶材主要用于工业级镀膜，实验或研究级别用铬靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。

靶材优点：

质量可靠，价格优惠

轧制致密，氧化少，成型可塑

相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高

真空装填，提纯制备，纯度高，杂质少

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