陶瓷靶材生产

目前自有的生产设备主要有真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，区域熔炼熔炉，多温区加热炉，单晶炉，真空热压炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、氮化炉、冷压成型机，真空锻轧设备，车床，磨床，铣床，钻床，冲床，线切割等各种材料成型及机械加工设备。

主要产品有各种溅射靶材，蒸发镀膜料，半导体化合物，高纯金属，蒸馏稀土金属，还原稀土金属，稀土合金，中间合金，高纯化合物等。

纯度：99%,99.9%,99.95%99.99%,99.995%99.999%and99.9999%.

形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制

熔炼工艺靶材单片尺寸：直径(<650mm)，长度(<1600mm)，宽度(<500mm)，厚度(>1mm)

陶瓷热压靶材单片尺寸:直径(14英寸),长度(200mm),宽度(200mm),厚度(20mm)

热等静压靶材坯料尺寸:长度960mm*宽度290mm*厚度180mm

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