真空镀膜用镍钒合金靶材_高纯合金溅射靶材

靶材名称：真空镀膜用镍钒合金靶材 高纯合金溅射靶材

产 地：上海

材 质：Ni、V

合金比例：Ni:93%V:7%

标 准：ASTM B760-07，GB/T3875-83

晶粒度：<100um

生产工艺：使用高纯金川镍，进口尔罗斯金属钒做原料，真空熔炉镍钒合金，加热锻造，冷轧成型，退火后，完善的数控机械加工设备，有数控车床，电脑锣，精密磨床，中走丝线切割，可为客人加工定制各种尺寸靶材。

靶材用途：

真空镀膜，实验或研究级别用镍钒靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等

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