平面显示工业、光数据储存工业用镍靶材_镍圆靶材

靶材名称：平面显示工业、光数据储存工业用镍靶材 镍圆靶材

材 质：Ni

纯 度：99.99%

晶粒度：＜100μm

生产工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用镍靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等

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