厂家平面溅射钼靶材_真空镀膜钼靶材

靶材名称：厂家平面溅射钼靶材 真空镀膜钼靶材

产 地：上海

材 质：Mo

纯 度：99.95%

晶粒度：<100um

密 度：≥10.15g/cm3

应用领域：

经过变形量达到60%以上的轧制加工后，钼片的密度基本上接近于钼的理论密度，因此其具有高强度，内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能，从而被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏、盖板，真空炉内的反射屏、发热带、连接件，等离子镀膜用的溅射靶材，耐高温舟皿等制品。

钼靶材属性：

溅射作为一种先进的薄膜材料制备技术，具有“高速”及“低速”两大特点。它利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子靶材，如目前广泛应用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays，薄膜半导体管-液晶显示器)，等离子显示屏、无极光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMDS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。

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