钽钨(Ta10W)合金箔/带
- 编号:
- Ta10W-ME-F
- 名称:
- 钽钨(Ta10W)合金箔/带
- 别名:
- 99.95% 钽钨(Ta10W)合金箔/带, Ta-W, 高纯钽钨(Ta10W)合金箔/带,
- 分子式:
- [Ta-W]
- CAS号:
- [N/A]
- 纯度:
- [99.95%]
- 形状:
- 规格:
- 厚度 0.03-0.07mm; 宽度 30-200 mm; 长度 >50 mm
- 价格:
- ¥
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- 产品介绍
- 技术参数
- 售后保障
Ta和 Ta合金具有高密度、高熔点、耐腐蚀、优异的高温强度、良好的加工性和可焊性以及低的塑脆转变温度等优良性能,而广泛应用于电子、化工、武器等多种行业。
在难熔金属中,Ta的低温塑性是最好的,其塑性-脆性转变温度低于-196℃,同时其对腐蚀介质干氯、湿氯、氯水、次氯酸、次氯酸盐以及盐酸等均具有优异的抗腐蚀性能[3],美国 LosAlamos国家实验室利用 Ta合金对熔融钚良好的耐腐蚀性,将其作为核原料钚的熔炼坩埚和搅拌器原料[4]。
作为一种典型的 BCC(BodyCenteredCubic)结构金属,Ta和 Ta合金的力学性能受微量杂质含量、结晶结构等内在因素的影响,对温度及应变率的变化比较敏感,引起了国内外许多学者的关注。
S.Nemat-Nasser[5-6]通过对 Ta和 Ta-2.5W 材料的动态力学性能实验结果进行分析发现,W 成分增加使 Ta-2.5W 具有更高的流动应力,但降低其应变率敏感性。彭建祥[7]利用所测得的应力-应变曲线拟
合了 Ta在不同应变率和不同温度下的Johnson-Cook与 Zerilli-Armstrong本构方程,并对JohnsonCook本构方程中的应变率强化项作了修正。
张林[8]通过平面对称碰撞实验,给出了 Ta在低压下的冲击特性参数和层裂强度。
L.M.Hsiung[9]研究了平板冲击实验对 Ta和 Ta-10W 材料微结构排列的影响。
Q.Wei[10]研究了等通道拉伸后 Ta材料的微结构和力学特性。丁旭[11]通过 X 射线衍射实验方法测定了较高 W 含量的 Ta-W 二元合金的晶格常数,采用3种不同方法计算了 Ta-W 密度,并对结果之间的差异进行了分析。本工作采用 MTS试验机和 SHPB(SplitHopkinsonPressureBar)装置对非退火状态 Ta-10W 合金进行准静态和动态压缩实验,获得了其准静态压缩屈服强度和动态压缩应力-应变关系曲线,并对其力学特性及应变率敏感性进行了分析。